UV 400 和 UVR 400 系统专为基于 GaN 的 MOCVD 外延工艺而设计，可直接测量晶圆表面温度，与传统的基座/口袋温度测量相比有显着改进，从而提高了产量。UVR 400 更进一步，在 635 nm 处集成了一个额外的反射仪，以 0.5 kHz 的测量速度运行，便于测量沉积厚度。这些系统重新定义了 LED 生产过程的标准，结果显示了过程温度与最终产品波长之间的可靠相关性。
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