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GSL-ZDDZS-500
产地:中国大陆
品牌:沈阳科晶
主要技术参数:用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。
市场价:¥0
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OTF-1200X-RTP-II
主要技术参数:OTF-1200X-RTP-II近距离蒸发镀膜(CSS)炉是一款快速蒸发管式炉,专门用于PVD或CSS法制作薄膜;其炉管外径为11″
450型
主要技术参数:450型电子束蒸发镀膜系统用于制备导电薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、光学薄膜等,广泛应用于大专院校、科研机构的科研及小批量生产。
主要技术参数:六源有机无机联合蒸发镀膜设备适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作
主要技术参数:高真空单室热蒸发系统用于纳米级单层及多层功能膜、硬质膜、金属膜、 半导体膜、介质膜等新型薄膜材料的制备。
GSL-1700X-SPC-2
主要技术参数:GSL-1700X-SPC-2小型程序控温蒸发镀膜仪可对程序进行设定,并精确控制温度在200ºC-1500ºC(或者1200ºC-~1700ºC)的范围内进行变化
GSL-1100X-SPC-16C
主要技术参数:GSL-1100X-SPC-16C溅射蒸镀膜仪配备了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。
GSL-1800X-ZF2
主要技术参数:GSL-1800X-ZF2蒸发镀膜仪主要应用于大专院校、科研机构、企业实验室及进行微小产品真空镀膜工艺研究、样板试制、操作培训和生产的单位。
GSL-CKJS-450-B1
主要技术参数:高真空溅射可用于金属、半导体、绝缘体等多种新型薄膜材料的制备,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,可广泛用于大专、科研院所的薄膜材料研究、制备。
GSL-CKJS-560-B2
GSL-1100X-SPC-16M
主要技术参数:GSL-1100X-SPC-16M磁控溅射镀膜仪在真空环境中利用粒子轰击靶材产生的溅射效应,使得靶材原子或分子从固体表面射出,在基片上沉积形成薄膜的过程。
VGB-600-3HD
主要技术参数:VGB-600-3HD薄膜电池制备系统可在手套箱内进行实验操作
VTC-600-2HD-1000
主要技术参数:VTC-600-2HD-1000双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备
VTC-600-1HD
主要技术参数:VTC-600-1HD单靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备
VTC-600-3HD
主要技术参数:VTC-600-3HD三靶磁控溅射仪是新自主研制开发的镀膜设备
GSL-1100X-SPC-16
主要技术参数:GSL-1100X-SPC-16单靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子溅射仪,可进行金、铂、铟、银等多种金属的溅射镀膜
GSL-1100X-SPC-16-3
主要技术参数:GSL-1100X-SPC-16-3等离子三靶溅射仪是依据二极(DC)直流溅射原理
VTC-16-3HD
主要技术参数:VTC-16-3HD 3靶等离子溅射仪是一款紧凑型的等离子薄膜溅射仪(直流普通型),控制面板采用触摸屏模式
VTC-100-SE
主要技术参数:VTC-100-SE基本型桌面式喷胶机是一种满足半导体TSV、MEMS、WLP等工艺制程中异形表面的喷胶作业设备。
VTC-200-SE
主要技术参数:VTC-200-SE 8寸柜式喷胶机是一种满足半导体TSV、MEMS、WLP等工艺制程中异形表面的喷胶作业设备。