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MSK-SP-01A
产地:中国大陆
品牌:沈阳科晶
主要技术参数:MSK-SP-01A超声波雾化模块是利用超声波能量将液体或是胶状法分散成微米级的颗粒
市场价:¥0
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MSK-SP-01A-VSN
主要技术参数:MSK-SP-01A-VSN气压整形喷头适用与我公司的MSK-SP-04-LD超声雾化热解涂覆薄膜机和VTC-300USS超声雾化旋转涂膜机。
EQ-300SP-I
主要技术参数:EQ-300SP-I单通道注射泵由步进电机及其驱动器、丝杆和支架等构成,具有往复移动的丝杆、螺母。
MSK-USP-04C
主要技术参数:MSK-USP-04C超声喷雾热解涂膜机,喷胶机采用步进电机和微处理器来控制容积泵,从而保证输液器精确输送溶剂,保证超声喷雾过程的连续性。
VTC-300BUSS
主要技术参数:VTC-300BUSS 超声雾化旋转涂膜机/喷胶机主要特点是结合旋转和喷涂的优点
VTC-300USS
主要技术参数:VTC-300USS 超声雾化旋转涂膜机/喷胶机主要特点是结合旋转和喷涂的优点
VTC-50B
主要技术参数:VTC-50B 微型旋涂机主要适用于液体、胶状体、可流动糊状体等薄膜材料的使用。设备采用铝质外壳结构,使产品更轻量化,上盖采用透明亚格力材质,可清晰的观察到涂膜整个过程。
VTC-200PV
主要技术参数:VTC-200PV真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。
VTC-50H
主要技术参数:VTC-50H是一款小型的旋转涂膜机,带有真空吸盘,此设备特别适合在手套箱内使用。
VTC-200-4P
主要技术参数:VTC-200-4P 喷雾旋转涂覆机适用于半导体工艺、制版工艺及表面涂覆工艺。
VTC-100PAX
主要技术参数:VTC-100PAX 真空旋转涂膜机适用于半导体工艺、晶体、光盘、制版等表面涂膜制备。
VTC-100PA-UV
主要技术参数:VTC-100PA-UV型紫外光旋转涂膜机、匀胶机、甩胶机、旋涂仪、spin coater适用于半导体工艺、晶体、光盘、制版及表面涂覆等工艺。
VTC-200P
主要技术参数:VTC-200P真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。
VTC-200
主要技术参数:VTC-200真空旋转涂膜机具有操作简单、清理方便,体积小巧等优点,主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。
VTC-100B
主要技术参数:VTC-100B真空旋转涂膜机是在VTC-100真空旋转涂膜机基础上进行升级的一款匀胶机,具有操作简单、清理方便,体积小巧等优点,主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的涂覆过程。
VTC-100
主要技术参数:VTC-100 真空旋转涂膜机适用于半导体工艺,制版及表面涂覆等工艺。本机具有操作简单、清理方便、体积小巧等优点,主要应用于各大专院校,科研院所的实验室中进行薄膜生成过程。
VTC-100PA-I/VTC-100PA-II
主要技术参数:VTC-100PA-I真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。
VTC-100PA
主要技术参数:VTC-100PA真空旋转涂膜机适用于半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机可用于强酸、强碱性涂覆溶液的涂膜制备。
VTC-50A
主要技术参数:VTC-50A旋转涂膜机供电系统采用了电机部分与控制部分分别使用独立电源的方式,调速系统则采用了抗干扰性高的单片机进行控制,使得转数在高达 1000-8000RPM 范围内都非常稳定。
VTC-100PAH
主要技术参数:VTC-100PAH 真空旋转涂膜机适用于半导体工艺、晶体、光盘、制版等表面涂膜制备。