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品牌:上海天辰
型号:ZGX系列
型号:GFX系列
型号:101系列
型号:SYG系列
型号:SC系列
L 9/11/SKM型
产地:中国大陆
品牌:纳博热Nabertherm
主要技术参数:简要介绍在对腐蚀性物质进行热处理时,我们推荐您使用L 9/11/SKM型马弗炉。窑炉配有一个内嵌加热元件的陶瓷马弗炉胆,加热从四面进行。此...
市场价:¥0
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L, LT /14系列
主要技术参数:简要介绍该型号系列产品具有出色的加工工艺,先进的精美设计和高可靠性。由于加热元件直接安装在支撑管上且热量可自由发散到炉膛中,故这些...
L,LT 5-15/13系列
主要技术参数:简要介绍加热元件安装在支撑管上,并可于炉膛中自由辐射热量,因此马弗炉所需加热时间极短。此外,坚固的保温结构由轻质耐火砖构成,可实现...
LE系列
主要技术参数:简要介绍凭借其引人注目的超值性价比和快速加热特性,紧凑型马弗炉获得广泛的实验室应用。双层不锈钢炉壳、紧凑轻巧的结构及内置于石英管的...
L1/12-LT40/12系列
主要技术参数:简要介绍L 1/12 - LT 40/12系列的马弗炉适用于实验室日常应用,多年来已赢得广泛认可。出色的焙烧效果、现代化的外型设计及高度的可靠...
NAT系列
主要技术参数:简要介绍这类空气循环箱式炉具有温度均匀性良好的显著特点。由于紧凑的台式设计,该系列产品非常适合安装在实验室或空间有限的室内。应用包...
NA系列
主要技术参数:简要介绍因其非常出色的温度均匀性,这种带有空气循环装置的箱式炉适用于回火、退火、硬化、固溶退火、人工时效、PTFE烧结、预热或软化退火...
KTR系列
主要技术参数:简要介绍KTR系列箱式干燥器可用于对批料进行各种干燥加工和热处理,应用温度最高可达 260 ℃。因为空气循环装置功率强大,因此在有效空间...
TR LS系列
主要技术参数:简要介绍通过符合EN1539A型的安全设备,TR.. LS系列干燥柜适用于干燥含溶剂批次。由于设计紧凑,这些干燥柜可以很好地集成到实验室或生产...
TR系列
产地:
主要技术参数:简要介绍通过可达300℃的最大工作温度和强制空气循环,干燥箱可以实现非常好的温度均匀性。他们可以用于比如干燥、消毒、热存放等各种应用...
(2.5/4/8/12)-10DⅡ/PⅡ, (2.5/5/10)-12DⅡ/PⅡ,(2/2.5/4/5/8)-13DⅡ/PⅡ
品牌:泰斯特
主要技术参数:箱式电阻炉(升级版)系列Ⅱ(2.5/4/8/12)-10DⅡ/PⅡ, (2.5/5/10)-12DⅡ/PⅡ,(2/2.5/4/5/8)-13DⅡ/PⅡ天津泰斯特,箱式电阻炉(升级版)...
(2.5/4/8/12)-10D/P (2.5/5/10)-12D/P (2/2.5/4/5/8)-13D/P
主要技术参数:箱式电阻炉(升级版)系列(2.5/4/8/12)-10D/P (2.5/5/10)-12D/P (2/2.5/4/5/8)-13D/P天津泰斯特,箱式电阻炉(升级版),经久耐用的热处...
SX-(2.5/4/8/12)-10 SX-(2.5/5/10)-12 SRJX-(2/2.5/4/5/8)-13
主要技术参数:箱式电阻炉(SX、SRJX)系列SX-(2.5/4/8/12)-10 SX-(2.5/5/10)-12 SRJX-(2/2.5/4/5/8)-13天津泰斯特,箱式电阻炉(SX、SRJX),经久耐用...
CVD-TF16P50/60/80/100 CVD-TF16T50/60/80/100 CVD-TF16P60/80/100S CVD-TF16T60/80/100S
主要技术参数:1600℃真空/气氛管式炉CVD系统(CVD-TF),提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境,应用在半导体、纳米技术、等纤维等领域,此款CVD生长系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
CVD-TF14P40/50/60/80 CVD-TF14T40/50/60/80
主要技术参数:此CVD系统适用于CVD工艺,如碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长、陶瓷电容(MLCC)气氛烧结等实验。
CVD-TF12P50/60/80/100 CVD-TF12T50/60/80/100 CVD-TF12P50/60/80/100S CVD-TF12T50/60/80/100S
主要技术参数:1200℃开启式真空/气氛管式炉CVD系统(CVD-TF)CVD-TF12P50/60/80/100 CVD-TF12T50/60/80/100 CVD-TF12P50/60/80/100S CVD-TF12T50/60/8...
ZLXT-2/3/4 ZKXT-2 FZXT-2/3/4
主要技术参数:该系列流量产品配合真空气氛管式炉一起使用,方便快捷,记录气体累计流量。设备为用户提供具有可控气氛的实验环境。
TF12D50/TF12D60/TF12D80/TF12D100/TF12D50S/TF12D60S/TF12D80S/TF12D100S
主要技术参数:1200℃开启式真空/气氛管式炉(TF)系列低配版TF12D50/TF12D60/TF12D80/TF12D100/TF12D50S/TF12D60S/TF12D80S/TF12D100S天津泰斯特,1200℃...
TF16P50/TF16P60/TF16P80/TF16P100/TF16P60S/TF16P80S/TF16P100S,TF16T50/TF16T60/TF16T80/TF16T100/TF16T60S/TF16T80S/TF16T100S
主要技术参数:天津泰斯特,1600℃真空/气氛管式炉(TF)系列,提供具有真空、可控气氛及高温的实验环境,应用在半导体、纳米技术、碳纤维等领域
TF14P40/TF14T40/TF14P50/TF14T50/TF14P60/TF14T60/TF14P80/TF14T80/
主要技术参数:1400°真空/气氛管式炉(TF)系列TF14P40/TF14T40/TF14P50/TF14T50/TF14P60/TF14T60/TF14P80/TF14T80/天津泰斯特,1400°真空/气氛管式炉(...