Simco-Ion 离子产生器 4210-宜器服务网

产品详情

4210 离子产生器

很多高科技产业都依赖离子产生器来处理由静电所引起的控制问题 - 增加良率，降低停机时间和微控锁定，和降低操作成本。但在微环境和制程设备内，有时会限制离子产生器安装在它们最重要的生产空间内。
在制程设备内的有限工作空间，或靠近一些敏感的部件，安装离子产生器会有限制，型号 4210在线气体离子产生器可电离通过的压缩气体来产生和输出数量相同的正负离子，透过 Teflon™ 管道連接，输进吹入到静电敏感区，处理静电问题。复合管道可定制，以避免设备内的移动部件。

产品特点
• 容易连接的复合管道
• 可用 CDA 或氮气 (Nitrogen)
• IsoStat® 专利技术
• 稳态直流电离
• 超高洁净的静电针 (型号 4210u 或 4210un)
• 超高洁净结购，严控的输出电流和几何结构

优点

• 精准输送平衡的离子到狭小的空间，最佳用在不能把静电针曝露的地方
• 应用广范
• 无需调较
• 快速消散时间
• 提供 ISO 14644-1 Class 3 洁净度
• 免维护可达两年

4210 技术参数

型号	4210
离子平衡	±25V (特定的气流气压，CPM 距离 6 寸，根据 ANSI/ESD STM3.1-2006 的测试标准)
消散时间	4210：10 秒，4210u：6 秒，4210un：10 秒 (用 6 寸长 1/4” 内径的 Teflon 管，CPM 距离 6 寸；气流 120 SCFH (2 SCFM)
工作模式	稳态直流
静电针材质	钨或单晶硅
输入电压	120 VAC，50-60 Hz, 约 2 W；可提供 100/230 VAC 型号
操作环境	环境 20-60°C；输入气体温度 120°C (在 23°C 工作环境)
气流输入	最小 1.5 cfm，最大由复合管道的反压决定
气压输入	10-50 psi (安全范围)；4210 并不是为高气压力设计，应安装在气阀出口处连大气压力
复合管道气压	4210：0-50 psi；4210u：0-50 psi；4210un：0-15 psi (产生电离)
复合管道	Teflon 管道有扩口接头作接连；Nitrogen 是用 9.５ｍｍ内径；CDA 是用 6 mm 内径；详细资料可参考 Simco-Ion 技术资料 - In-line Gas Ionization Considerations 4210 Use and Application Guide
气管接口	在出气和入气端有 1/4 寸 NPT 母 Teflon 接头
符合洁净度	4210：ISO 14644-1 Class 5；4210u：ISO 14644-1 Class 3; 4210un - ISO 14644-1 Class 3
气流输入	CDA and/or Nitrogen
封装	Power-coated white aluminum
支架	有 4-6/32 螺纹洞；另有墙和隔板的安装支架提供
体积	6.1D x 12.1L x 8.0W cm
重量	1.04 kg (含接头和电源线)
维护	建议 2 年连续使用
保修期	两年有限保修

订购资料

91-4210-01	4210 离子产生器，钨针，可用 CDA/Nitrogen；120 VAC，美式墙插
91-4210-100V-01	4210 离子产生器，钨针，可用 CDA/Nitrogen；100 VAC，美式墙插
91-4210-230V-01	4210 离子产生器，钨针，可用 CDA/Nitrogen；230 VAC，欧式墙插
91-4210-UK-01	4210 离子产生器，钨针，可用 CDA/Nitrogen；230 VAC，英式墙插
91-4210U-01	4210U 离子产生器，单晶硅针，用 CDA；120 VAC，美式墙插
91-4210U-100V-01	4210U 离子产生器，单晶硅针，用 CDA；100 VAC，美式墙插
91-4210U-230V-01	4210U 离子产生器，单晶硅针，用 CDA；230 VAC，欧式墙插
91-4210U-UK-01	4210U 离子产生器，单晶硅针，用 CDA；230 VAC，英式墙插
91-4210UN-01	4210UN 离子产生器，单晶硅针，用 Nitrogen；120 VAC，美式墙插
91-4210UN- 100V-01	4210UN 离子产生器，单晶硅针，用 Nitrogen；100 VAC，美式墙插
91-4210UN- 230V-01	4210UN 离子产生器，单晶硅针，用 Nitrogen；230 VAC，欧式墙插
91-4210UN-UK-01	4210UN 离子产生器，单晶硅针，用 Nitrogen；230 VAC，英式墙插