卡尔蔡司 在线监测光谱仪系统 ThinProcess®系列

ThinProcess®系列 在线监测光谱仪系统 

蔡司ThinProcess®是一种端到端的解决方案，能够以实验室级精度控制和监测大面积镀膜工艺的质量。ThinProcess®非常适合用于在真空或大气环境中对卧式/立式玻璃镀膜以及卷对卷薄膜进行测量。

实验室级别的准确性

高测量频率

产品优势

了解详情

ThinProcess®为如下所有大面积镀膜工艺的在线过程监测提供解决方案

卧式或立式玻璃镀膜

卷对卷镀膜

真空或大气中镀膜

蔡司 ThinProcess® Q是一种横向扫描测量系统，可以测定成品的光学和光谱特性。该系统提供多种自动扫描模式，用于测量最终产品上的预定义位置。

测量360 nm至1050 nm光谱范围内的光谱透过率和反射率

计算和分析颜色、镀膜厚度、光谱评估、吸光度/吸收率、太阳光波段特性等

波长范围最大可扩展至1650或2150 nm

采用55°倾角执行颜色测量

蔡司ThinProcess® P是一种单通道或多通道测量系统，用于测定一个或多个镀膜工序之后的光学特性。离散基材会被自动识别，而样品间隙则用于自动触发和参考。测量可在真空或大气环境中进行。

测量360 nm至1050 nm光谱范围内的光谱透过率和反射率
计算和分析颜色、镀膜厚度、光谱评估、吸光度/吸收率、太阳光波段特性等

波长范围最大可扩展至1650 nm

面电阻测量

蔡司ThinProcess® R是一种单通道或多通道测量系统，用于测定一个或多个镀膜工序之后的光学特性。
该系统可通过数字I/O或现场总线信号进行控制来激活测量和参考。
如果窗格之间的间隙太小或工艺速度过快而无法进行自动检测，它就是理想的解决方案。
测量可在真空或大气环境中进行。

测量360 nm至1050 nm光谱范围内的光谱透过率和反射率

计算和分析颜色、镀膜厚度、光谱评估、吸光度/吸收率、太阳光波段特性等

波长范围从365 nm扩展至1650或2150 nm

面电阻测量

蔡司ThinProcess® WEB是一种单通道或多通道测量系统，用于测定卷绕镀膜工厂中一个或多个镀膜工序之后的光学特性。测量体系可以完全集成到机器的自动化策略中。测量可在真空或大气环境中进行。

测量360 nm至1050 nm光谱范围内的光谱透过率和反射率

计算和分析颜色、镀膜厚度、光谱评估、吸光度/吸收率、太阳光波段特性等

波长范围从340 nm扩展至1650或从365 nm扩展至2150 nm

面电阻测量

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