7940 晶圆检测系统
Chroma 7940晶圆检测系统为自动化切割后晶粒检测设备,使用先进的打光技术,可以清楚的辨识晶粒的外观瑕疵。结合不同的光源角度、亮度及取像模式,使得7940可以适用于LED、雷射二极体及光敏二极管等产业。由于使用高速相机以及自行开发之检测算法,7940可以在3分钟内检测完6吋LED晶圆,换算为单颗处理时间15msec。7940同时也提供了自动对焦与翘曲补偿功能,以克服晶圆薄膜的翘曲与载盘的水平问题。7940可配置2种不同倍率,使用者可依晶粒或瑕疵尺寸选择检测倍率。系统搭配的最小分辨率为0.5um,一般来说,可以检测1.5um左右的瑕疵尺寸。
系统功能
在扩膜之后,晶粒或晶圆可能会产生不规则的排列,7940也提供了搜寻及排列功能以转正晶圆。此外,7940拥有人性化的使用接口可降低学习曲线,所有的必要信息,如晶圆分布,瑕疵区域,检测参数及结果,均可清楚地透过使用者界面(UI)呈现。
瑕疵资料分析
所有的检测结果均会被记录下来,而不仅只是良品/不良品的结果。这有助于找出一组最佳参数,达到漏判与误判的平衡点。提供瑕疵原始资料亦有助于分析瑕疵产生之趋势,并回馈给制程人员进行改善。
产品性能特点
可同时检测正反两面晶圆
最大可检测6吋扩膜晶圆(检测区域达8吋范围)
可因应不同产业的晶粒更换或新增检测项目
上片后晶圆自动对位机制
自动寻边功能可适用于不同形状之晶圆
瑕疵规格编辑器可让用户自行编辑检测规格
瑕疵检出率高达98%
可结合上游测试机晶粒数据,合并后上传至下一道制程设备
提供检测报表编辑器,用户可自行选择适用数据并进行分析
应用范围 - 使用在垂直结构LED制程&垂直腔面发射激光器VCSEL制程
技术参数
Model | 7940 |
Suitable Chip and Package Type | |
Applicable Ring | Grip ring or wafer frame |
Inspection Area | 8 inches |
Chip Size | 125um x 125um ~ 2.2mm x 2.2mm at 5X magnification |
Suitable Package | LED vertical chip, flip chip, VCSEL |
Inspection | |
Camera | 25M Color Camera x 2 |
Light Source | LED co-axis light, ring light, back light |
Magnification | 2X, 5X objective lens selectable |
Resolution | 1.28um/pixel (2X), 0.5um/pixel (5X) |
Throughput | 6" wafer in 3 minutes at 2 lights, 2X magnification |
Algorithm | Pad defect, mesa defect, chipping defect, double chips and emitting area defect Provide algorithm interface to replace or add new inspection algorithm |
System | |
Cassette Load Port | Auto load ports x 3 |
Warpage Compensation | software auto focus to overcome wafer warpage |
PC | x 1 |
Software Function | |
Monitor | Real-time wafer map display |
Image Storage | All/defect images saving selectable |
Report | Including chip position, defect type, inspection results |
Cassette Selection | Programmable cassette selection and scheduling |
Facility Requirement | |
Dimension (WxDxH) | 1960 mm x 1650 mm x 1750 mm |
Weight | 2000 kg |
Power | AC 220V±10%, 50/60 Hz, 1Φ, 3KW |
Compressed Air | 0.6 MPa |
Operation Temperature | +5˚C ~40˚C |
Operation Humidity | 20%~60% R.H. |