DB500 聚焦离子束电子束双束显微镜
DB500拥有自主可控的场发射电子镜筒和“承影”离子镜筒,是一款优雅全能的纳米分析和制样工具。高压隧道技术(SuperTunnel)、低像差无漏磁物镜设计,低电压高分辨率成像,保证纳米分析能力。“承影”离子镜筒采用液态镓离子源,拥有高稳定、高质量的离子束流,保证纳米加工能力。集成式的纳米机械手、气体注入器,拥有24个扩展口,配置全面,自主可控,扩展性强,为您打造全能纳米分析和加工中心。
产品特点
产品优势
高压隧道技术和无漏磁物镜的电子镜筒,高分辨率成像,兼容磁性样品
“承影”离子镜筒,高稳定、高质量的离子束流,用于高质量纳米加工和TEM制样
样品仓内压电陶瓷驱动的机械手,集成式控制方式,操作精准到位
自主可控,扩展性强,集成化设计的离子源更换时间快,极致的售后服务,提供免费的三年质保无忧服务
技术介绍
离子镜筒"承影" 技术特点 分辨率:3 nm@30 kV 探针电流:1 pA~50 nA 加速电压范围:500 V~30 kV 使用寿命:≥1000小时 长时间稳定性:72小时不间断工作 | |
纳米机械手 技术特点 仓内安装方式 三轴全压电驱动 步进精度≤10nm 最大移动速度2mm/s 集成式控制方式 | |
离子束-电子束协同 | |
气体注入器 单气体注入 多种气源可选 伸缩距离≥35 mm 重复定位精度≤10 um 加热温度控制精度≤0.1℃ 加热温度范围:室温~90℃ 集成式控制方式 |
应用案例
技术参数
型号 | DB500 | |
电子束系统 | 电子枪类型 | 高亮度肖特基场发射电子枪 |
分辨率 | 1.2 nm@15 kV | |
加速电压 | 20 V ~ 30 kV | |
离子束系统 | 离子源类型 | 液态镓离子源 |
分辨率 | 3 nm@30 kV | |
加速电压 | 500 V ~ 30 kV | |
样品室 | 真空系统 | 全自动控制,无油真空系统 |
摄像头 | 三摄像头 | |
(光学导航+样品仓内监控x2) | ||
样品台类型 | 五轴机械优中心样品台 | |
样品台行程 | X=110 mm,Y=110 mm,Z=65 mm | |
T: -10°~+70°,R: 360° | ||
探测器和扩展 | 标配 | 镜筒内电子探测器 |
旁侧二次电子探测器(ETD) | ||
选配 | 插入式背散射电子探测器(BSED) | |
插入式扫描透射探测器(STEM) | ||
能谱仪(EDS) | ||
背散射衍射(EBSD) | ||
纳米机械手 | ||
气体注入器 | ||
等离子清洗 | ||
样品交换仓 | ||
轨迹球&旋钮控制板 | ||
软件 | 语言 | 中文 |
操作系统 | Windows | |
导航 | 光学导航、手势快捷导航 | |
自动功能 | 自动亮度对比度、自动聚焦、自动像散 |