日立 离子研磨仪 IM4000II

产品介绍
日立离子研磨仪标准机型IM4000Ⅱ能够进行截面研磨和平面研磨。还可通过低温控制及真空转移等各种选配功能，针对不同样品进行截面研磨。

产品特点

高效率的截面研磨

IM4000II配备截面研磨能力达到500 µm/h*1以上的高效率离子枪。因此，即使是硬质材料，也可以高效地制备出截面样品。

*1在加速电压6 kV下，将Si片从遮挡板边缘突出100 µm并加工1小时的最大深度

截面研磨时如果摆动的角度发生变化，加工的宽度和深度也会发生变化。下图为Si片在摆动角度为±15°下进行截面研磨后的结果。除摆动角度以外，其他条件与上述加工条件一致。通过与上面结果进行对比后，可发现加工的深度变深。
对于观察目标位于深处的样品来说，能够对样品进行更快速的截面研磨。

复合型研磨仪

截面研磨

即使是由不同硬度以及研磨速度材质所构成的复合材料，也可以通过IM4000Ⅱ制备出平滑的研磨面

优化加工条件，降低因离子束所致样品的损伤

可装载最大20 mm(W) × 12 mm(D) × 7 mm(H)的样品

截面研磨的主要用途

金属以及复合材料、高分子材料等样品的截面制备

含有裂缝和空隙等特定位置的样品截面制备

多层样品的截面制备以及对样品EBSD分析的前处理

平面研磨

直径约为5mm范围内的均匀加工

应用领域广泛

最大可装载直径50 mm × 高度25 mm的样品

可选择旋转和摆动（±60度，±90度的摆动）2种加工方法

平面研磨的主要用途

去除机械研磨中难以消除的细小划痕和形变

去除样品表层部分

消除因FIB加工所致的损伤层

低温控制功能*1

将液氮装入杜瓦罐中，以此作为冷却源间接冷却样品。IM4000Ⅱ配有温度调节控制功能，以防止树脂和橡胶样品过冷。

真空转移功能

离子研磨加工后的样品可以在不接触空气的状态下直接转移到SEM*1、AFM*2上。真空转移功能与低温控制功能可同时使用。（平面研磨真空转移功能不适用低温控制功能）。

观察加工过程的体式显微镜

右图为用于观察样品加工过程的体式显微镜。搭载了CCD相机的三目型显微镜能够在显示器上进行观察。也可配置双目型体式显微镜。

技术参数

*1将Si片从遮挡板边缘突出100 µm并加工1小时的深度。

选配项

*2需与主机同时订购。冷却温度控制功能在使用时，部分功能可能使用有限。