产品介绍
SE-VM 是一款高精度快速测量光谱椭偏仪。可通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现光学参数薄膜和纳米结构的表征分析,适用于薄膜材料的快速测量表征。支持多角度,微光斑,可视化调平系统等高兼容性灵活配置,多功能模块定制化设计。
高精度椭偏测量解决方案;超高精度、快速无损测量;支持多角度、微光斑、可视化调平系统功能模块灵活定制;丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力。
广泛应用于镀膜工艺控制、tooling校正等测量应用,实现光学薄膜、纳米结构的光学常数和几何特征尺寸快速的表征分析。
产品特点
采用高性能进口复合光源,光谱覆盖可见到近红外范围 (380-1000nm)
高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置,实现Psi/Delta光谱数据高速采集
支持系列配置灵活,可根据不同应用场景支持多功能模块化定制
数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料
技术参数
自动化程度 | 手动变角 |
应用定位 | 通用型 |
基本功能 | Psi/Delta、N/C/S、R/T等光谱 |
分析光谱 | 380-1000nm(可扩至210-1650nm) |
单次测量时间 | 0.5-5s |
重复性测量精度 | 0.01nm |
光斑大小 | 大光斑2-3mm,微光斑200μm |
入射角调节方式 | 手动变角 |
入射角范围 | 55-75°(5°步进),90° |
找焦方式 | 手动找焦 |
Mapping行程 | 不支持 |
支持样件尺寸 | 最大至180mm |
可选配件 | 1 | 温控台 |
2 | Mapping扩展模块 | |
3 | 真空泵 | |
4 | 透射吸附组件 |