产品介绍
SE-Mapping光谱椭偏仪是一款可定制化Mapping绘制化测量光谱椭偏仪,采用行业前沿创新技术,配置全自动Mapping测量模块,通过椭偏参数、 透射/反射率等参数的测量,快速实现薄膜全基片膜厚以及光学参数自定义绘制化测量表征分析。SE-Mapping光谱椭偏仪广泛应用OLED,LED,光伏,集成电路等工业应用中,实现大尺寸全基片膜厚、光学常数以及膜厚分布快速测量与表征。
产品特点
全基片椭偏绘制化测量解决方案
支持产品设计以及功能模块定制化,一键绘制测量
配置Mapping模块,全基片自定义多点定位测量能力
丰富的数据库和几何结构模型库,保证强大数据分析能力
采用氘灯和卤素灯复合光源,光谱覆盖紫外到近红外范围 (193-2500nm)
高精度旋转补偿器调制、PCRSA配置,实现Psi/Delta光谱数据高速采集
具备全基片自定义多点自动定位测量能力,提供全面膜厚检测分析报告
数百种材料数据库、多种算法模型库,涵盖了目前绝大部分的光电材料
技术参数
自动化程度 | 固定角+ mapping |
应用定位 | 检測型 |
基本功能 | Psi/Delta、N/C/S、R等光谱 |
分析光谱 | 380-1000nm(可扩至193-2500nm) |
单次测量时间 | 0.5-5s |
重复性测量精度 | 0.01nm |
光斑大小 | 大光斑2-3mm,微光斑200um |
入射角调节方式 | 固定角 |
入射角范围 | 65° |
找焦方式 | 手动找焦 |
Mapping1程 | 300x300mm |
支持样件尺寸 | 最大至300mm |
可选配件 | 1 | 真空泵 |
2 | 透射吸附组件 |