沈阳科晶 全自动多层钙钛矿旋转涂层机 VTC-100ML

产品介绍

VTC-100ML全自动多层钙钛矿旋转涂层机适用于钙钛矿材料的涂膜，半导体、晶体、光盘、制版等表面涂覆工艺。本机实现滴胶、旋涂、烘干的整个过程自动完成；可同时交替涂覆两种薄膜，两种液体各交替最多500次，实现千层薄膜的涂覆。本机可用于酸、碱性涂覆溶液的涂膜制备。设备标配不同尺寸的真空吸盘，可根据样品尺寸不同选择不同的真空吸盘，利用真空吸附的方式固定基片。该机主要应用于各大专院校、科研院所的实验室中进行薄膜的生成过程。

产品特点

• 真空吸附方式固定样件，操作简便。

• 根据样件规格可以配用不同的吸盘，且更换方便简单。

• 电机采用24V直流无刷电机，可靠性高，适应性强，维修与保养简单，噪音低，震动小，运转平稳，启动快速稳定，加速后运行平稳，可以保证涂层厚度的一致性和均匀性。

• 采用无油真空泵，体积小巧、结构简单、操作容易、维护方便、不会污染环境等优点。

• 腔体采用聚四氟乙烯材质，使用寿命更长，耐化学腐蚀性和优异的抗应力开裂性能；机身采用钣金结构，结实耐用且质轻。

• 加热后可通气体进行快速冷却。

• 中文操作界面（全英文操作系统可选）

• 具有开盖保护功能，当涂膜过程中或涂膜结束时打开上盖后机器立刻迅速减速直到停止。

• 控制界面采用触摸屏控制，操作简单方便，显示直观。

• 全自动的涂膜过程：自动滴胶、自动通气、自动旋涂、自动烘干。

• 可两种液体交替涂膜，最多可涂1000层薄膜。

安装条件

温湿度：10-85%RH (at 25℃ 无凝露） 温度： 0-45℃。

设备周围无强烈震源和腐蚀气体。 

水：需排污下水

电：单相：AC220V 50Hz 国标三极插座 10A 必须有良好接地

气：①样品盘：真空负压（真空泵） 抽气流量不小于 70L/M

②冷却：压缩气体或自行规定的惰性气体

工作台：建议 1500X600X700mm 承重 100KG 以上(固体水泥台最佳）

通风装置：无特殊要求

技术参数

标准配件

可选配件