沈阳科晶 双靶磁控溅射仪 VTC-600-2HD

产品介绍

VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD双靶磁控溅射仪配备有两个靶枪和两个电源，一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜，一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。

产品特点

• 配置两个靶枪，一个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜，一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。

• 可制备多种薄膜，应用广泛。

• 体积小，操作简便。

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。

水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）

电：AC220V 50Hz，必须有良好接地

气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头）及减压阀

工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上

通风装置：需要

技术参数

注：随机标配“电源适配器”规格参数： IN: AC100-240V 50/60Hz OUT: DC-24V 3.75A，设备上下部分独立供电，实际供电以产品后部粘贴标牌为准，此设备支持 AC110V 50/60Hz 产品定制。

标准配件

直流电源控制系统1套

射频电源控制系统1套

膜厚监测仪系统1套

分子泵（德国进口或者国产更大抽速）1台

冷水机1台

聚酯PU管（Ø6mm）4m

可选配件

金、铟、银、铂等各种靶材
可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜