沈阳科晶薄膜电池制备系统 VGB-600-3HD-宜器服务网

产品详情

产品介绍

VGB-600-3HD薄膜电池制备系统可在手套箱内进行实验操作，用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。该系统配置三个靶枪，一个配套射频电源通过转换开关可以分别连接至任一靶头，用于各类靶材的溅射镀膜。与同类设备相比，其不仅应用广泛，且具有体积小便于操作的优点，是一款实验室制备材料薄膜的理想设备，特别适用于实验室研究薄膜电池、固态电解质及OLED等，与普通磁控溅射相比可以做Li靶材及锂基材料靶材的镀膜实验，是新能源行业实验室镀膜实验的理想设备。

产品特点

配置三个靶枪，一个配套射频电源通过转换开关可以分别连接至任一靶头，用于各类靶材的溅射镀膜（靶枪可以根据客户需要任何调换）。
可制备多种薄膜，应用广泛。
体积小，操作简便。
整机模块化设计，真空腔室、真空泵组、控制电源分体式设计，可根据用户实际需要调整。
可根据用户实际需要选择电源，可以一个电源控制多个靶枪，也可多个电源单一控制靶枪（选配）。
可在手套箱内进行实验操作，更换各类易氧化的靶材用于镀膜实验。

技术参数

三靶磁控溅射部分
电源电压	220V 50Hz
总功率	2.5KW
极限真空度	< E-6mbar（配合本公司机械泵设备使用可达到 E-3mbar）
工作温度	RT-500℃，精度±1℃（可根据实际需要提升温度）
靶枪数量	3个
靶枪冷却方式	水冷
靶材尺寸	Ø2″，厚度0.1mm-5mm（因靶材材质不同厚度有所不同）
溅射电源功率	300W（射频）/500W（直流）
载样台	Ø140mm
载样台转速	1rpm-20rpm内可调
保护气体	Ar、N2等惰性气体
进气气路	质量流量计控制2路进气，1个流量为100 SCCM，1个流量为200 SCCM
手套箱部分
电源	单相AC110V-220V 50Hz/60Hz
壳体材料	304不锈钢
手套箱腔体	1220mm×760mm×900mm
前级室	设有2个前级室，大前级室Ø360mm×600mm，小前级室Ø150mm×300mm
腔体环境	水含量<1ppm（20℃，1atm），氧含量<1ppm（20℃，1atm）
工作气体	N2、Ar、He等惰性气体
控制气体	压缩空气或惰性气体
还原气体	工作气体和H2的混合气（如果净化系统只有除水功能，还原气体与工作气体相同）
气体净化系统	德国BASF除氧材料、美国UOP高效吸水材料，净化系统再生过程自动控制，自动除水、除氧功能，可长期、持续维持气体纯度在水<1ppm、氧<1ppm
压力控制系统	腔体气压可通过PLC触摸屏自动控制，控制精度为±1Pa，也可通过脚踏开关进行手动控制
过滤系统	进、出气端都装有过滤器，过滤精度为0.3μm
控制系统	SIEMENS彩色触摸屏（6寸），PLC控制系统，中英文双语可切换；水探头采用美国GE品牌，0-1000ppm触摸屏显示，精度0.1ppm；氧变送器采用美国AII品牌，0-1000ppm触摸屏显示，精度0.1ppm；压力传感仪采用美国setra品牌，-2500-2500Pa触摸屏显示，精度±1Pa；
真空泵	采用英国EDWARDS品牌，抽速8.4m3/h-12m3/h
手套	美国NORTH品牌丁基合成橡胶
照明系统	飞利浦品牌荧光灯管
产品规格	三靶磁控溅射部分：950mm×460mm×810mm 手套箱部分：2300mm×1500mm×1900mm

沈阳科晶 薄膜电池制备系统 VGB-600-3HD

沈阳科晶薄膜电池制备系统 VGB-600-3HD