产品介绍
钙钛矿镀膜机主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等,可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作,也可用于大批量生产前的试验工作,广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域。钙钛矿镀膜机工作过程中样品位于真空室上方,蒸发源位于真空室下方,向上蒸发镀膜,且蒸发源带有挡板装置,防止蒸发源被污染。
产品特点
样品位于真空室上方,蒸发源位于真空室下方,向上蒸发镀膜,且蒸发源带有挡板装置。
设有烘烤加热功能,可在镀膜过程中加热样品,最高烘烤加热温度为180℃。
设有断水、断电连锁保护报警装置及防误操作保护报警装置。
技术参数
镀膜室 | 不锈钢材料,采用方形前后开门结构,内带有防污板,腔室尺寸约为600mm×450mm×450mm |
真空排气系统 | 采用分子泵+机械泵系统 |
真空度 | 镀膜室极限真空≤6×10-4Pa |
系统漏率 | ≤1×10-7Pa |
蒸发源 | 安装在真空室的下底上; 有机蒸发源4个、容积5ml,2台蒸发电源,可测温、控温,加热温度 400℃,功率0.5KW; 无机蒸发源4套、容积5ml,2台蒸发电源,加热电流300A,功率3.2KW; 蒸发源挡板采用自动磁力控制方式控制其开启 |
样品架 | 安装在真空室的上盖上,可放置Ø120mm的样品、载玻片,旋转速度0-30rpm |
加热温度 | RT-180℃,测温、控温 |
膜厚控制仪 | 石英晶振膜厚控制仪,膜厚测量范围0-999999Å |