沈阳科晶 单靶磁控溅射仪 VTC-16-1HD

产品介绍

VTC-16-1HD单靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备，可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。单靶磁控溅射仪配备有一个靶枪，可选择强磁靶或弱磁靶，弱磁靶用于非导磁材料的溅射镀膜，强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比，且具有体积小便于操作的优点，且可使用的材料范围广，是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。

产品特点

• 一个靶枪，配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜或配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。

• 靶头在样品台正下方，脆性靶材安装更方便，样品不易被污染。

• 可制备多种薄膜，应用广泛。

• 体积小，操作简便。

安装条件

本设备要求在海拔1000m以下，温度25℃±15℃，湿度55%Rh±10%Rh下使用。

水：设备配有自循环冷却水机（加注纯净水或者去离子水）

电：AC220V 50Hz，必须有良好接地

气：设备腔室内需充注氩气（纯度99.99%以上），需自备氩气气瓶（自带Ø6mm双卡套接头）及减压阀

工作台：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上

通风装置：需要

技术参数

标准配件

直流电源控制系统1套、射频电源控制系统1套、分子泵（德国进口或者国产更大抽速）1台、冷水机1台、冷却水管（Ø6mm）2根

可选配件

金、铟、银、白金等各种靶材，可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。膜厚检测系统。