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VTC-600-3HD-1000

沈阳科晶 三靶磁控溅射仪 VTC-600-3HD-1000

品牌名称:沈阳科晶

产品型号:VTC-600-3HD-1000

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VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备
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产品介绍

VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪配备有三个靶枪和三个电源,一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜,一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜,可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。

 

产品特点

  • 配置三个靶枪,两个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。

  • 可制备多种薄膜,应用广泛。

  • 体积小,操作简便。

 

技术参数

输入电源

220V/50Hz

溅射靶数量

3

腔体内径

Ø300mm

靶枪冷却方式

水冷

极限真空度

7.4E-5pa

真空室规格

Φ300×330   mm

真空系统

VRD-16机械泵 FF-100/150涡轮分子泵

恢复真空

系统从大气抽至5.0E-3pa≤30 min(系统短时间暴露大气)

充气系统

2路质量流量计(1路氩气100scc、1路氩气200scc)特殊气体可定制

溅射靶规格

Φ2",厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同)

样品台

Φ70mm//可加热(室温~1000℃)

产品规格

主机尺寸:宽900mm×深650mm×高1100mm

 


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