产品介绍
VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪是我公司自主新研制开发的一款高真空镀膜设备,可用于制备单层或多层铁电薄膜、导电薄膜、合金薄膜、半导体薄膜、陶瓷薄膜、介质薄膜、光学薄膜、氧化物薄膜、硬质薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-3HD-1000三靶磁控溅射仪配备有三个靶枪和三个电源,一个射频电源用于非导电材料的溅射镀膜,一个直流电源用于导电材料的溅射镀膜,可选配强磁靶用于铁磁性材料的溅射镀膜。与同类设备相比,且具有体积小便于操作的优点,且可使用的材料范围广,是一款实验室制备各类材料薄膜的理想设备。
产品特点
配置三个靶枪,两个配套射频电源用于非导电靶材的溅射镀膜,一个配套直流电源用于导电性材料的溅射镀膜。
可制备多种薄膜,应用广泛。
体积小,操作简便。
技术参数
输入电源 | 220V/50Hz |
溅射靶数量 | 3 |
腔体内径 | Ø300mm |
靶枪冷却方式 | 水冷 |
极限真空度 | 7.4E-5pa |
真空室规格 | Φ300×330 mm |
真空系统 | VRD-16机械泵 FF-100/150涡轮分子泵 |
恢复真空 | 系统从大气抽至5.0E-3pa≤30 min(系统短时间暴露大气) |
充气系统 | 2路质量流量计(1路氩气100scc、1路氩气200scc)特殊气体可定制 |
溅射靶规格 | Φ2",厚度0.1-5mm(因靶材材质不同厚度有所不同) |
样品台 | Φ70mm//可加热(室温~1000℃) |
产品规格 | 主机尺寸:宽900mm×深650mm×高1100mm |