F54-XY系列 自动薄膜厚度测量仪
图案化晶圆的自动膜厚测量
F54-XY拥有先进的反射光谱仪系统,可轻松实现对最大300mm晶圆样品的膜厚测量。
F54-XY-200型膜厚仪可测量最大尺寸200mm的样品,电动XY载台可实现预选点位的自动测量,测量速度最高可达每秒2个视场点。
F54-XYT-300型膜厚仪具备高性能旋转样品台,可实现对300mm晶圆样品的测量。
系统内置极坐标、矩形阵列、直线等多种点位图形,用户也可自定义创建测量点阵,且无最多测量点数的限制。
模式识别功能可满足阵列式或非阵列式晶圆的测量需求。
F54-XY系列不同机型的主要区别在于待测薄膜的厚度和光源波段。一般情况下,待测膜厚越小,则需使用更短波长的光源进行测量(如 F54-XY-200-UV),反之长波光源则可以满足更厚、
粗糙或透明度更低的薄膜厚度测量需求。
包含的内容:
集成光谱仪/光源装置
FILMapper 测量软件
SiO2厚度标准
集成式硅反射标准
真空泵
F54-XY 选配
模式识别软件
自动转塔
高通滤波器转轮
可追溯的 NIST 厚度标准
型号参数
型号 | 厚度范围* | 波长范围 |
F54-XY | 20nm-50µm | 380-1050nm |
F54-XY-UV | 4nm-35µm | 190-1100nm |
F54-XY-NIR | 100nm-120µm | 950-1700nm |
F54-XY-EXR | 20nm-120µm | 380-1700nm |
F54-XY-UVX | 4nm-120µm | 190-1700nm |
*取决于薄膜种类
常见的选购配件: